低转速下多弧离子镀制备的Mo-Ti-Al-N超晶格硬质涂层的微结构及背散射谱分析

• 作 者: 王泽松 梁枫 项燕雄 李松权 田灿鑫 邹长伟
• 机 构: 岭南师范学院物理科学与技术学院
• 出 处: 表面技术
• 发表日期: 2019年4期
• 关键词: 多弧离子镀 纳米多层膜 Mo-Ti-Al-N超晶格涂层 微结构 调制周期 背散射谱 multi-arc ion plating nanomultilayer M
• 基金项目: 广东省科技计划(对外合作)项目(2018A050506082),广东省自然科学基金(2018A030307027),岭南师范学院自然科学研究项目(LZL1809,1170916003).

目的研究低基片转速对纳米多层膜微结构和性能的影响。方法采用阴极多弧离子镀技术在单晶硅基片上沉积制备了MoTiAlN/MoN/Mo纳米复合结构涂层,借助X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、背散射谱(RBS)和纳米硬度计,分别对样品的物相、形貌、组分和硬度进行表征分析。结果 XRD显示不同转速下制备的涂层的物相结构主要为六角密排结构的Mo N和面心立方(Ti,Al)N,较高基片转速下涂层的结晶性较好。SEM和TEM图像证实,2 r/min基片转速下的目标涂层具有平均调制周期26 n