用于光刻成像技术中的双腔准分子光源(英文)

• 作 者: Daniel J.Colon Cymer
• 机 构: 美国加州圣地亚哥市III有限公司
• 出 处: 电子工业专用设备
• 发表日期: 2004年02期
• 关键词: 数值孔径 双腔 深紫外綫 输出功率 光谱带宽 降低成本 Wavelength daughter violet typically

MOPA(MasterOscillator&PowerAmplifier)是采用双腔技术的准分子光源,它的成功量产将向光刻工厂提供前所未有的光谱带宽性能和输出功率,并大大降低成本,而且还适用于所有DUV曝光波长。

MOPA (MasterOscillator & PowerAmplifier) ​​is an excimer light source with dual cavity technology. Its successful mass production will deliver unprecedented spectral bandwidth performance and output power to the lithography plant with significantly lower cost, but also for all DUV exposure wavelengths.