日立化成开发出可蚀刻SiN的浆料用于太阳能电池等领域

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日立化成开发出了可蚀刻氮化硅(SiN)的浆料,并在第12届国际纳米技术综合展(nano tech 2013)上展出。只要利用丝网印刷工艺使该浆料成形,便可只去除浆料下面的SiN。日立化成的目标是将这种浆料用于太阳能电池及MEMS制造工序等。在结晶硅型太阳能电池的制造工序中,通常要在硅电池单元的受光侧用 Hitachi Chemical made siliconized silicon nitride (SiN) slurry and presented it at the 12th nano tech 2013. As long as the paste is formed by a screen printing process, only SiN under the paste can be removed. Hitachi Chemical’s goal is to use this slurry for solar cells and MEMS manufacturing processes. In the process of producing a crystalline silicon solar cell, it is usually necessary to use, on the light receiving side of the silicon cell,
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