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(续上期)3.2电磁损耗(tan δe和(35)H)及线宽来源分析如第2节所述,自偏置环行器工程化应用的主要障碍是插入损耗偏大,其原因主要是来自于材料的微波电磁损耗。
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【摘 要】
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(续上期)3.2电磁损耗(tan δe和(35)H)及线宽来源分析如第2节所述,自偏置环行器工程化应用的主要障碍是插入损耗偏大,其原因主要是来自于材料的微波电磁损耗。
【机 构】
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西南应用磁学研究所
【出 处】
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磁性材料及器件
【发表日期】
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2019年5期
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