硅膜制备

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【摘要】

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介绍了两大类硅膜的制备方法:物理方法与化学方法,其中包括物理方法中的电子束物理气相沉积技术(EB-PVD),目前该技术在国内应用比较少,所以对其工作原理、薄膜质量的影响因素

【作者】

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周玉锋张宇民韩杰才

【机构】

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哈尔滨工业大学复合材料与结构研究所

【出处】

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材料导报

【发表日期】

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2005年12期

【关键词】

：

硅膜制备物理气相沉积 EB-PVD 化学气相沉积 preparation of silicon coating physical vapor deposit

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介绍了两大类硅膜的制备方法:物理方法与化学方法,其中包括物理方法中的电子束物理气相沉积技术(EB-PVD),目前该技术在国内应用比较少,所以对其工作原理、薄膜质量的影响因素等作了重点介绍.此外还介绍了磁控溅射法、化学气相沉积法、等离子体增强化学气相沉积、热丝化学气相沉积法等硅膜制备方法的基本原理及特点,并对它们的优缺点进行了比较.

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