铈离子印迹聚合物的制备及吸附性能

• 作 者: 周进康 罗彬彬 龙攀峰 王毓 赵君
• 机 构: 贵州师范学院化学与材料学院,贵阳550018
• 出 处: 化工新型材料
• 发表日期: 2020年12期
• 关键词: 离子印迹聚合物 吸附 铈离子 选择性

以Ce(Ⅳ)为模板、二乙烯三胺(DETA)为螯合剂、丙烯酸(AA)为功能单体,在AB-8树脂表面进行水热聚合反应,制备出铈离子印迹聚合物(Ce-DETA-IIPs).采用红外光谱(FT-IR)、比表面积分析(BET)和X-衍射(XRD)进行表征.通过Ce-DETA-IIPs的吸附试验、考察了吸附性能.结果表明,在初始浓度350mg/L、吸附90min、温度为298K,Ce-DETA-IIPs对Ce(Ⅳ)的吸附量和吸附率分别达到174.03mg/g和99.38％,Ce-DETA-IIPs对几种金属离子的选择性系数QCe(Ⅳ)/QCa(Ⅱ)、QCe(ⅣV)/QAl(Ⅲ)、QCe(Ⅳ)/QFe(Ⅲ)、QCe(Ⅳ)/QMg(Ⅱ)和QCe(Ⅳ)/Qzn(Ⅱ)分别达到26.73、12.99、10.40、8.91和7.00.