【摘 要】
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采用小光斑激光预处理扫描SiO2单层膜,利用激光损伤阈值的光斑效应对预处理前后SiO2单层膜中缺陷的影响进行分析,并引入缺陷阈值和缺陷密度来表征薄膜中引起损伤的缺陷。研究
【机 构】
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中国科学院上海光学精密机械研究所强激光材料重点实验室,中国科学院研究生院,
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采用小光斑激光预处理扫描SiO2单层膜,利用激光损伤阈值的光斑效应对预处理前后SiO2单层膜中缺陷的影响进行分析,并引入缺陷阈值和缺陷密度来表征薄膜中引起损伤的缺陷。研究表明,激光预处理可以使SiO2单层膜在采用最大光斑条件下的损伤阈值提高1.6倍左右,并且激光预处理可清除薄膜中低阈值的缺陷。
The effects of pre-treatment and post-treatment on SiO2 monolayer films were analyzed by laser spot pretreatment with small spot laser. The flaw threshold and defect density were introduced to characterize the defects in the films. The results show that laser pretreatment can increase the damage threshold of SiO2 monolayer by about 1.6 times under the condition of maximum speckle, and laser pretreatment can remove the low threshold defect in the film.
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