【摘 要】
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脉冲等离子在溅射方面的应用在过去的几年里日渐盛行。最近 ,一种新的脉冲等离子技术已被引入到溅射领域。高能脉冲磁控管溅射(HPPMS)可使能量极大的脉冲 (可达几兆瓦 )在短
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脉冲等离子在溅射方面的应用在过去的几年里日渐盛行。最近 ,一种新的脉冲等离子技术已被引入到溅射领域。高能脉冲磁控管溅射(HPPMS)可使能量极大的脉冲 (可达几兆瓦 )在短时间内击中目标 ,导致溅射物的高度电离。电离物可用于改进镀膜的结构和性能。试验的供能装置是为了更多
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