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介绍了等离子增强磁控溅射（PEMS）技术，系统研究了其制备的Ti—Si—C—N纳米复合膜层。首先讨论该技术工作原理，并描述了膜层的制备工艺过程。通过SEM、XRD、EDS、纳米压痕、微米压痕及冲蚀试验等研究了膜层性能，发现膜层为纳米复合结构，以非晶SiCxNy为基质，内含4．7～30nm的TiC0.3N0.7纳米晶。膜层硬度高达40GPa，同时研究了Si含量的影响。膜层表现出的耐冲蚀性比基体材料高100倍以上，其韧性对耐冲蚀性影响很大。讨论了溅射工艺参数对膜层微观组织结构、纳米硬度、附着力及耐冲蚀性方面的