离子镀工艺和应用简介

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离子镀是在真空蒸镀和溅射镀膜基础上发展起来的一项新技术,它的基本原理是:在真空室内,在欲镀材料的加热热源和工件之间形成一个高压电场,并发生辉光放电,低压惰性气体(如氩气)在放电区离化,高速轰击工件 Ion plating is a new technology developed on the basis of vacuum evaporation and sputter coating. The basic principle is that in the vacuum chamber, a high-voltage electric field is formed between the heating source to be plated and the workpiece, Light discharge, low pressure inert gas (such as argon) in the discharge area of ​​ionization, high-speed bombardment of the workpiece
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