旋转金盘电极上Cu~(2+)欠电位沉积及在痕量Cu~(2+)分析中的应用

来源 :华中师范大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:jhffgh
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金属离子的欠电位沉积能显著改变被沉积表面的电化学性能,在电催化和金属电沉积的研究中颇受重视。本文在研究有机物吸附对多种金属离子(Cu~(2+),pb~(2+),Ag~+,Cd~(2+),Tl~+和Hg~(2+))欠电位沉积影响的基础上,对欠电位沉积在痕量Cu~(2+)分析中应用的可能性进行了研究。实验结果表明,这是一种较灵敏的分析方法。 Underpotential deposition of metal ions can significantly change the electrochemical performance of the surface being deposited, which has drawn great attention in the research of electrocatalysis and metal electrodeposition. In this paper, the adsorption of organic compounds on a variety of metal ions (Cu ~ (2 +), Pb2 +, Ag ~ +, Cd2 +, Tl ~ + and Hg2 +) underpotential deposition On the basis of the influence, the potential application of underpotential deposition in trace Cu 2+ analysis has been studied. The experimental results show that this is a more sensitive method of analysis.
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