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2004年12月10日，天津市科委组织并召开了“微晶、石英、光学、电子玻璃纳米磨料CMP技术的研究”项目成果鉴定会．该项目针对微晶、石英、光学、电子玻璃化学机械全局平坦化(CMP)中亟待解决的机理、技术和抛光液等问题，在大量实验的基础上，确立了微晶、石英、光学、电子玻璃的CMP机理模型；采用改进型1号液为微晶、石英、光学、电子玻璃代替了目前广泛使用的对人体有害、易造成污染的丙酮、重铬酸钾和浓硫酸洗液；加入FA／O表面活性剂，加快表面质量传递，保证在凸起处与凹陷处抛光速率选择性好，从而保证了平整度，有效降低