【摘 要】
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一、前言离子注入工艺是把要注入的杂质元素电离成离子,利用加速器加速,使离子以很快的运动速度,打入固体靶片内,以达到改变固体靶片表面的物理化学性能。这种注入工艺早在
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一、前言离子注入工艺是把要注入的杂质元素电离成离子,利用加速器加速,使离子以很快的运动速度,打入固体靶片内,以达到改变固体靶片表面的物理化学性能。这种注入工艺早在五十年代就已进行了大量的研究,当时的研究以金属为主,进行原子相互作用的物理探索,摸拟反应堆材料的幅照损伤效应。六十年代初,人们已经知道半导体材料的电学性质,可以由
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