【摘 要】
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首次报道了用微波等离子体化学气相沉积技术在TaN2电阻材料上沉积高质量金刚石薄膜的制备工艺,以及扫描电镜,X射线衍射,拉曼光谱,压痕测试的测试结果,从实验上表明了CVD金刚石薄膜作用TaN2热打
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首次报道了用微波等离子体化学气相沉积技术在TaN2电阻材料上沉积高质量金刚石薄膜的制备工艺,以及扫描电镜,X射线衍射,拉曼光谱,压痕测试的测试结果,从实验上表明了CVD金刚石薄膜作用TaN2热打印头表面保护层的可能性。
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