金刚石膜粘附力的增强

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为提高金刚石膜的粘附力,采用直流等离子体喷射CVD法和等离子体喷涂材料法合成了含金刚石组份梯度中间层。合成这种组份梯度金刚石膜所用的设备包括直流等离子体喷射炬,水冷基板座和真空反应室。将氢和甲烷气体的等离子体流喷涂在水冷基板上,形成金刚石膜。中间层由送入合成金刚石的等离子体中的粉末状物质形成。用改变粉末传送速率的办法控制组份梯度。基板为W/Mo合金,粉末状物质为WC。借助扫描电镜(SEM)和x射线显微分析(XMA)等分析方法,观察金刚石和等离子体喷射物混合体的形成。由于难以有效地控制非常低的粉末传送速率,
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