高压下XeF2结构稳定性及电子结构性质的理论研究

• 作 者: 王海燕 杨炳方 王彪 师瑞丽
• 机 构: 河南理工大学材料科学与工程学院,上海出入境检验检疫局工业品与原材料检测技术中心
• 出 处: 四川大学学报：自然科学版
• 发表日期: 2017年4期
• 关键词: 结构性质 高压 第一性原理 能带结构 Structural properties High pressure First principle Band s
• 基金项目: 国家自然科学基金（11404099）,河南理工大学杰出青年基金（J2014-05）

采用平面波赝势密度泛函理论方法研究了惰性气体化合物XeF2在0～80GPa压力范围内的结构性质，计算值与实验值相符合．根据我们计算得到的不同压力XeF2的弹性常数，结合力学稳定性判据，证实XeF2的14／mmm结构在80GPa压力范围内是稳定的．计算了不同压力下XeF2的带隙，发现带隙随着压力的增大而减小．当压力大于10GPa时，XeF2的带隙随压力的增大近似呈线性减小趋势．表明随着压力的增大XeF2晶体由绝缘体向半导体转变，且金属性越来越强．