表面处理中的物理气相沉积法

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目前,在材料的表面处理领域中,为了提高材料的耐蚀、耐摩擦、硬度高的特性,一种利用真空条件的物理气相沉积(PVD)方法引人注目。常用的在材料的表面形成薄膜的方法有电镀、涂敷、化学气相沉积(CVD)等。然而,经过电镀、化学气相沉积法处理以后,有废液、废气造成的公害问题。干式的物理 At present, in the field of surface treatment of materials, a physical vapor deposition (PVD) method utilizing vacuum conditions is attracting attention in order to improve corrosion resistance, abrasion resistance and hardness of the material. Commonly used in the surface of the material to form a thin film plating, coating, chemical vapor deposition (CVD) and so on. However, after plating, chemical vapor deposition treatment, there are waste, exhaust pollution problems caused by. Dry physics
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