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靶材主要种类与用途分析溅射工艺属于物理气相沉积(PVD)技术的一种,是制备电子薄膜材料的主要技术之一。按照应用领域不同,电子溅射靶材可以分为半导体靶材、平面靶材、镀膜玻璃靶材、太阳能光伏靶材等,不同应用领域对金属材料的选择和性能要求存在一定的差异,其中半导体集成电路用的溅射靶材技术要求最高,最苛刻。