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提出了制备氧化铟锡薄膜（ＩＴＯ）的磁控反射溅射镀膜设备的关键部件的设计原则。给出了该设备的调试结果。
制备ITO薄膜的磁控反应溅射镀膜设备的研制
【摘 要】
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提出了制备氧化铟锡薄膜（ＩＴＯ）的磁控反射溅射镀膜设备的关键部件的设计原则。给出了该设备的调试结果。
【机 构】
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兰州物理研究所
【出 处】
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真空与低温
【发表日期】
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1998年3期
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