【摘 要】
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本文研究了从瓦特镀镍液中电沉积Ni-B_4C复合镀层时,各种工艺条件(如溶液中B_4C的浓度、PH值、电流密度、温度等)对B_4C在镀层中嵌入量的影响。用扫描电镜观察了镀层结构。探
【机 构】
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哈尔滨工业大学电化学教研室,哈尔滨工业大学电化学教研室,哈尔滨工业大学电化学教研室,哈尔滨工业大学电化学教研室
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本文研究了从瓦特镀镍液中电沉积Ni-B_4C复合镀层时,各种工艺条件(如溶液中B_4C的浓度、PH值、电流密度、温度等)对B_4C在镀层中嵌入量的影响。用扫描电镜观察了镀层结构。探讨了镍和微粒共沉积的机理。
In this paper, the effects of various process conditions (such as the concentration of B 4 C in solution, pH value, current density, temperature, etc.) on the embedding amount of B 4 C in the coating were studied when Ni-B 4 C composite electrodeposited from Watt nickel plating solution. The structure of the coating was observed by SEM. The mechanism of co-deposition of nickel and microparticles was discussed.
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