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采用磁控溅射法，在20CrMnTi基片上制备了MoS2／Ni复合膜，通过X射线衍射仪、能谱仪、扫描电子显微镜和微摩擦磨损试验机对薄膜的形貌、物相和摩擦学性能进行了测试与分析。结果表明：MoS2／Ni复合膜形貌规整，结构均匀；其摩擦因数低．具有较好的耐磨性和抗氧化性，承载能力大。在高转速摩擦条件下的性能更加优异。