同轴三层纳米电缆NiO@SiO2@TiO2的制备与表征

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采用静电纺丝技术,通过改进实验装置,成功地制备出了NiO@SiO2@TiO2同轴三层纳米电缆.采用差热-热重(TG-DTA)分析、X射线衍射(XRD)分析、傅立叶变换红外光谱(FTIR)分析、扫描电子显微镜(SEM)分析和透射电子显微镜(TEM)等分析技术对样品进行表征,结果表明,所得产物为NiO@SiO2@TiO2同轴三层纳米电缆,内层为NiO,直径大约为40~50 nm;中间层为SiO2,厚度大约为40~45 nm;外层为TiO2,厚度大约为45~50 nm.对NiO@SiO2@TiO2同轴三层纳米电缆的形成机理进行了讨论. NiO @ SiO2 @ TiO2 coaxial three-layer nano-cable was successfully prepared by using electrospinning technique and improved experimental equipment.Differential thermal-thermogravimetric analysis (TG-DTA), X-ray diffraction (FTIR), scanning electron microscopy (SEM) and transmission electron microscopy (TEM) were used to characterize the samples. The results showed that the product was NiO @ SiO2 @ TiO2 coaxial three-layer nano- Is NiO, and the diameter is about 40-50 nm; the middle layer is SiO2 and the thickness is about 40-45 nm; the outer layer is TiO2 and the thickness is about 45-50 nm. For NiO @ SiO2 @ TiO2 coaxial three-layer nano cable Formation mechanism is discussed.
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