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摘要：近日，明导公司与北京理工大学合作创建了光电联合实验室。合作仪式期间，部分专家学者谈到目前晶圆制造人才非常缺乏，人才培养迫在眉睫。本文网络版地址：http：//www.eepw.com.cn/article/248888.htm
关键词：晶圆；制造；人才；培养
DOI： 10.3969/j.issn.1005-5517.2014.6.003
人才告急
很多人认为半导体是钱的问题，其实钱不是主要问题，最主要的是人才。因为任何事情都是由人去做的。武汉新芯集成电路制造公司（XMC）行政管理处战略与业务发展高级副总李平介绍了该公司现状。武汉新芯作为全国三家拥有12英寸晶圆厂产能的工厂之一，现在有一千多名员工，其中工程师约三百多人，包括维护工程师、设备工程师等。按照武汉新芯制订的发展规划，未来产能将扩大10倍，将需要五千名工程师。“人才是一个迫在眉睫、必须要解决的问题。”
技术门槛高，人才培养难
实际上，政府也意识到人才的重要性，教育部已规划新建九个微电子学院，专门来解决未来微电子业的人才问题。
在国家重视的同时，校企合作也非常重要。明导（Mentor Graphics）公司中国区总经理范明辉女士称，根据协议，明导将资助北理工光电学院的课程开发、研究生学位课程专业研讨会和相关研究，使学生能深入了解前沿光电技术，如光学邻近校正（OPC）和分辨率增强技术（RET）。而“此次合作的OPC、RET，明导在中国的市占率达百分之百。”
不过，在合作过程中，明导发现中国的晶圆厂客户和合作伙伴找人才很难找，因为门槛特别高，不光在学校需要学很多专业知识，到企业后还得花一年甚至几年实践才能真正掌握。所以明导与高校合作建实验室，希望早日把工业界的知识带进学校。
北京理工大学光电学院的李艳秋博导也认为教学难度大，需从知识传授、实践、研究方面展开。
光电学院已在研究生的课程里设置了OPC、RET、高分辨率成像等光刻基础技术知识。
除此之外，还有上机实验课，让学生具体去设计光刻的高良率、高保真、高分辨率的掩模结构，以及OPC的结果；并让学生到企业实习，例如北理工光电学院正有三名学生在明导上海机构里实习，“这样一方面使学生直接参与企业在中国的研发以及技术支撑活动，同时使学生们也能得到企业的培养。”
在研究方面，“我们合作的内容围绕着RET，还在不断地丰富和拓展。”具体地，合作的是分辨率增强技术（RET）中的OPC，但已拓展到了包含掩模与光源、设备的协同设计（SMO），另外还考虑了偏振（SMPO），接下来还会涉及到设备也可能不是理想的，有相差，如何补偿相差，来让工艺（即生产线上做出来的芯片的光刻图形）保真，使芯片的良率更高等课题。
企业在职培训也需重视
但是，从学校培养出的人才，通常需要很多年的工作经验，才能够真正达到最佳状态。因此企业的在职培训也刻不容缓。
“社会上对人才培养有个误区。学校培养学生的是知识和能力，而不是去了岗位就是一个技能型的产业人员。”北理工的李艳秋博导指出。在国外，员工入职后要在企业进行重新培养。针对不同的岗位，比如政府、企业或研究所，需要重新打造，每个阶段应该都有不同的伯乐去发现和培养人才。
例如，李艳秋博导曾在一家日本著名的光学公司工作过，进入这家企业的技术人员都是光学科班出身，既使这样，该公司每年都要给老员工培训两个月，像应用光学、物理光学等。培训教师有的是公司内部的人，有的是从学校请来的。因此，咱们的本土企业也应该有这种观念。
28nm后的光刻与传统不同
光刻技术正在发生质变。中科院微电子所集成电路先导工艺研发中心韦亚一研究员说，新的光刻技术研发的模式改变是从28nm以后开始发生的，而我国现在最先进的工艺是28nm，再往下走是22/20、16/14nm节点。因此需要新型光刻人才。
具体地，集成电路的技术等级，例如45/40nm、32nm等，实际上是由光刻来保证的。从技术节点看，我国最先进的和国外最先进的水平相差约两到三个技术节点。例如我国最新的是28nm制程，由SMIC（中芯国际）在上海试产，才刚刚开始。而国外Intel公司14nm已开始试产。
28nm以后，整个光刻技术研发的方法论跟传统不同，变成以计算光刻为核心的研发循环，其中软件起关键作用。此时光刻机里所有参数都可以事先输入到软件中，对光刻机和光刻材料进行仿真，这样就可以事先知道实验结果如何。而且在仿真过程中可以修改工艺，再进行循环、计算，最后找到最佳条件。
可见，高校和企业均肩负了培养新型光刻人才的使命。
小结
强大的产业才能不受制于人。我国集成电路制造业的宏伟蓝图需要大批人才，这需要高校传授给学生最先进的知识，需要企业重视员工的再培训。人才培养也需要各种模式创新，明导和北理工的企校合作，以及北理工在教学方面的探索，值得借鉴和推广。
参考文献：
[1]王莹.武汉新芯：定位存储器制造，两年后或推3D NAND.电子产品世界，2014（1）
[2]王莹. 代工厂与设计公司如何像IDM一样合作.电子产品世界，2012（3）
[3]王莹.上下联动，促进IC产业跨越式发展.电子产品世界，2013（1）：28
[4]王莹. 把握产业趋势，开创自己的路.电子产品世界，2012（9）
[5]王莹，万翀.本土制造业寻求特色.电子产品世界，2011（11）
关键词：晶圆；制造；人才；培养
DOI： 10.3969/j.issn.1005-5517.2014.6.003
人才告急
很多人认为半导体是钱的问题，其实钱不是主要问题，最主要的是人才。因为任何事情都是由人去做的。武汉新芯集成电路制造公司（XMC）行政管理处战略与业务发展高级副总李平介绍了该公司现状。武汉新芯作为全国三家拥有12英寸晶圆厂产能的工厂之一，现在有一千多名员工，其中工程师约三百多人，包括维护工程师、设备工程师等。按照武汉新芯制订的发展规划，未来产能将扩大10倍，将需要五千名工程师。“人才是一个迫在眉睫、必须要解决的问题。”
技术门槛高，人才培养难
实际上，政府也意识到人才的重要性，教育部已规划新建九个微电子学院，专门来解决未来微电子业的人才问题。
在国家重视的同时，校企合作也非常重要。明导（Mentor Graphics）公司中国区总经理范明辉女士称，根据协议，明导将资助北理工光电学院的课程开发、研究生学位课程专业研讨会和相关研究，使学生能深入了解前沿光电技术，如光学邻近校正（OPC）和分辨率增强技术（RET）。而“此次合作的OPC、RET，明导在中国的市占率达百分之百。”
不过，在合作过程中，明导发现中国的晶圆厂客户和合作伙伴找人才很难找，因为门槛特别高，不光在学校需要学很多专业知识，到企业后还得花一年甚至几年实践才能真正掌握。所以明导与高校合作建实验室，希望早日把工业界的知识带进学校。
北京理工大学光电学院的李艳秋博导也认为教学难度大，需从知识传授、实践、研究方面展开。
光电学院已在研究生的课程里设置了OPC、RET、高分辨率成像等光刻基础技术知识。
除此之外，还有上机实验课，让学生具体去设计光刻的高良率、高保真、高分辨率的掩模结构，以及OPC的结果；并让学生到企业实习，例如北理工光电学院正有三名学生在明导上海机构里实习，“这样一方面使学生直接参与企业在中国的研发以及技术支撑活动，同时使学生们也能得到企业的培养。”
在研究方面，“我们合作的内容围绕着RET，还在不断地丰富和拓展。”具体地，合作的是分辨率增强技术（RET）中的OPC，但已拓展到了包含掩模与光源、设备的协同设计（SMO），另外还考虑了偏振（SMPO），接下来还会涉及到设备也可能不是理想的，有相差，如何补偿相差，来让工艺（即生产线上做出来的芯片的光刻图形）保真，使芯片的良率更高等课题。
企业在职培训也需重视
但是，从学校培养出的人才，通常需要很多年的工作经验，才能够真正达到最佳状态。因此企业的在职培训也刻不容缓。
“社会上对人才培养有个误区。学校培养学生的是知识和能力，而不是去了岗位就是一个技能型的产业人员。”北理工的李艳秋博导指出。在国外，员工入职后要在企业进行重新培养。针对不同的岗位，比如政府、企业或研究所，需要重新打造，每个阶段应该都有不同的伯乐去发现和培养人才。
例如，李艳秋博导曾在一家日本著名的光学公司工作过，进入这家企业的技术人员都是光学科班出身，既使这样，该公司每年都要给老员工培训两个月，像应用光学、物理光学等。培训教师有的是公司内部的人，有的是从学校请来的。因此，咱们的本土企业也应该有这种观念。
28nm后的光刻与传统不同
光刻技术正在发生质变。中科院微电子所集成电路先导工艺研发中心韦亚一研究员说，新的光刻技术研发的模式改变是从28nm以后开始发生的，而我国现在最先进的工艺是28nm，再往下走是22/20、16/14nm节点。因此需要新型光刻人才。
具体地，集成电路的技术等级，例如45/40nm、32nm等，实际上是由光刻来保证的。从技术节点看，我国最先进的和国外最先进的水平相差约两到三个技术节点。例如我国最新的是28nm制程，由SMIC（中芯国际）在上海试产，才刚刚开始。而国外Intel公司14nm已开始试产。
28nm以后，整个光刻技术研发的方法论跟传统不同，变成以计算光刻为核心的研发循环，其中软件起关键作用。此时光刻机里所有参数都可以事先输入到软件中，对光刻机和光刻材料进行仿真，这样就可以事先知道实验结果如何。而且在仿真过程中可以修改工艺，再进行循环、计算，最后找到最佳条件。
可见，高校和企业均肩负了培养新型光刻人才的使命。
小结
强大的产业才能不受制于人。我国集成电路制造业的宏伟蓝图需要大批人才，这需要高校传授给学生最先进的知识，需要企业重视员工的再培训。人才培养也需要各种模式创新，明导和北理工的企校合作，以及北理工在教学方面的探索，值得借鉴和推广。
参考文献：
[1]王莹.武汉新芯：定位存储器制造，两年后或推3D NAND.电子产品世界，2014（1）
[2]王莹. 代工厂与设计公司如何像IDM一样合作.电子产品世界，2012（3）
[3]王莹.上下联动，促进IC产业跨越式发展.电子产品世界，2013（1）：28
[4]王莹. 把握产业趋势，开创自己的路.电子产品世界，2012（9）
[5]王莹，万翀.本土制造业寻求特色.电子产品世界，2011（11）