【摘 要】
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非晶态硅是近十多年来迅速发展起来的新型电子材料。它在能源器件—太阳能电池等多种器件和集成电路中都有重要的应用。等离子体技术是一种新技术,其应用范围十分广阔,也是制
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非晶态硅是近十多年来迅速发展起来的新型电子材料。它在能源器件—太阳能电池等多种器件和集成电路中都有重要的应用。等离子体技术是一种新技术,其应用范围十分广阔,也是制备非晶态硅的主要方法。本文阐述了等离子体的产生及其特性,等离子体化学反应和非晶态硅薄膜的制备技术,给出了工艺参数和若干测量结果。
Amorphous silicon is a new type of electronic material developed rapidly in recent ten years. It has an important application in a variety of devices and integrated circuits such as energy devices - solar cells. Plasma technology is a new technology, its application is very broad, but also the main method of preparing amorphous silicon. This paper describes the generation of plasma and its characteristics, plasma chemical reaction and amorphous silicon thin film preparation technology, given the process parameters and a number of measurement results.
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