【摘 要】
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采用不同的氧化电流密度(20 mA/cm2、50 mA/cm2、70 mA/cm2、100 mA/cm2),在碱性硅酸盐溶液中镁合金AZ91D表面制得了一系列的微弧氧化膜,并且利用体视显微镜方法、X射线衍射
【机 构】
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中国科学院海洋研究所,中国海洋大学
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采用不同的氧化电流密度(20 mA/cm2、50 mA/cm2、70 mA/cm2、100 mA/cm2),在碱性硅酸盐溶液中镁合金AZ91D表面制得了一系列的微弧氧化膜,并且利用体视显微镜方法、X射线衍射方法和电化学阻抗方法对膜层的表面形貌、结构组成以及电化学阻抗等性能进行了比较研究.结果表明,氧化电流密度越高,膜层的生长速度越快,膜层的晶化程度越高,但是膜层的粗糙度和孔隙率升高,阻抗反而下降.膜层的阻抗性能不是由膜层的总厚度决定,而是主要取决于氧化膜的致密程度.
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