【摘 要】
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本文介绍了我们开发的２μｍｐ阱ＣＭＯＳ工艺，包括不同工艺方案的设计，主要参数的选取、调整及实验结果。给出不同工艺方案的比较及实验结果对比，最后给出我们选定的２μｍｐ阱ＣＭＯＳ工艺方案及主要电学参
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本文介绍了我们开发的２μｍｐ阱ＣＭＯＳ工艺，包括不同工艺方案的设计，主要参数的选取、调整及实验结果。给出不同工艺方案的比较及实验结果对比，最后给出我们选定的２μｍｐ阱ＣＭＯＳ工艺方案及主要电学参数。
This article describes the 2μmp well CMOS process we developed, including the design of different process options, the main parameters of the selection, adjustment and experimental results. The comparison of different process schemes and experimental results are given. Finally, the 2μmp well CMOS process scheme and the main electrical parameters are given.
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