高损伤阈值三倍频分离膜

• 作 者: 王孝东 张锦龙 马彬 焦宏飞 丁涛 程鑫彬
• 机 构: 同济大学精密光学工程技术研究所,上海市特殊人工微结构材料与技术重点实验室,同济大学航空航天与力学学院
• 出 处: 强激光与粒子束
• 发表日期: 2011年7期
• 关键词: 三倍频分离膜 电子束蒸发 激光损伤阈值 光学薄膜 third harmonic separator electron beam evaporation lase

设计了Nd：YAG激光用三倍频分离膜,膜层材料为SiO2和HfO2。经过优化,膜系在355 nm处的反射率在99%以上,在532 nm和1 064 nm处透射率也在99%以上。采用电子束蒸发技术,在熔融石英基底上制备了样品,经测量,制备的分离膜光学性能与设计值接近。分离膜在355 nm激光辐照下的损伤阈值为5.1 J/cm2,并用微分干涉显微镜表征了薄膜损伤形貌。