【摘 要】
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Short-channel high-mobility Si/Si0.5Ge0.5/silicon-on-insulator (SOI) quantum-well p-type metal-oxide-semiconductor field effect transistors (p-MOSFETs) were fab
【机 构】
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State Key Laboratory of Functional Materials for Informatics, Shanghai Institute of Microsystem and
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Short-channel high-mobility Si/Si0.5Ge0.5/silicon-on-insulator (SOI) quantum-well p-type metal-oxide-semiconductor field effect transistors (p-MOSFETs) were fabricated and electrically characterized.The transistors show good transfer and output characteristics with Ion/Ioff ratio up to 105 and sub-threshold slope down to 100mV/dec.HfO2/TiN gate stack is employed and the equivalent oxide thickness of 1.1 nm is achieved.The effective hole mobility of the transistors reaches 200 cm2/V·s,which is 2.12 times the Si universal hole mobility.
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