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本文讨论了在不加温的Ｐｔ／Ｔｉ／ＳｉＯ＿２／Ｓｉ基片上用射频磁控溅射技术制备出的铁电ＰＬＺＴ（７．５／６５／３５）薄膜，以及研制的铁电薄膜电性能测试系统。利用Ｘ射线衍射法对原位溅射和退火处理后薄膜的结构进行了分析，结果显示薄膜结晶性好，呈现钙钛矿结构。通过比较薄膜的结构，探讨了薄膜底电极对薄膜结构的影响。对退火处理后的薄膜的电性能测试结果表明，这种ＰＬＺＴ薄膜具有良好的铁电性能。