Ni/NiO网上PbO2薄膜的制备

• 作 者: 冯战百 陈燚 田楠 龙飞
• 机 构: 桂林理工大学材料科学与工程学院,桂林理工大学
• 出 处: 电子显微学报
• 发表日期: 2020年3期
• 关键词: 电沉积 二氧化铅 电化学氧化法 electrodepositionlead dioxideelectrochemical oxidation
• 基金项目: 广西科技计划项目广西科技基地和人才专项(No.2019AC19003),广西“特聘专家”专项经费资助.

本文采用阳极电沉积法在预氧化的Ni网上制备了PbO2薄膜,利用SEM与XRD对PbO2薄膜进行微观表征,探究了不同沉积工艺下PbO2的薄膜形貌变化:(1)在不同电沉积电势下PbO2膜的形貌变化;(2)在不同占空比下PbO2膜的形貌变化;(3)在不同电沉积时间下PbO2膜的形貌及厚度。并得到了最优的沉积参数,沉积电压为2.4 V、占空比为0.5。该条件下得到的PbO2膜均匀性与覆盖率最好,为后期在污水处理方面提供了PbO2薄膜制备技术参考。