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扩散炉(及CVD)是集成电路生产线前工序的重要工艺设备之一,它的主要用途是对半导体进行掺杂,即在高温条件下将掺杂材料扩散入硅片,从而改变和控制半导体内杂质的类型、浓度和分布,以便建立起不同的电特性区域。虽然某些工艺可以使用
扩散炉开发现状
【摘 要】
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扩散炉(及CVD)是集成电路生产线前工序的重要工艺设备之一,它的主要用途是对半导体进行掺杂,即在高温条件下将掺杂材料扩散入硅片,从而改变和控制半导体内杂质的类型、浓度和
【机 构】
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北京七星华创微电子设备分公司扩散所所长
【出 处】
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中国集成电路
【发表日期】
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2002年3期
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