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本文对SiH<sub>4</sub>-N<sub>2</sub>系PECVD氮化硅-硅界面陷阱进行了研究.结果表明:MNS结构的C-V特性有滞后效应,滞后宽度随测试条件而变化;界面陷阱密度随淀积条件变化。
氮化硅—硅界面陷阱的研究
【摘 要】
：
本文对SiH<sub>4</sub>-N<sub>2</sub>系PECVD氮化硅-硅界面陷阱进行了研究.结果表明:MNS结构的C-V特性有滞后效应,滞后宽度随测试条件而变化;界面陷阱密度随淀积条件变化。
【机 构】
：
西安电子科技大学微电子研究所,西安电子科技大学微电子研究所
【出 处】
：
西安电子科技大学学报
【发表日期】
：
1991年1期
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