【摘 要】
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真空蒸发方法及电镀法制靶的比较在文献[1]中已有简单介绍。我们用电镀方法制备了锡靶,得到的厚度为1—10 mg/cm~2,效率好于80%。制靶采用的电镀和工业电镀有区别,用料少,镀
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真空蒸发方法及电镀法制靶的比较在文献[1]中已有简单介绍。我们用电镀方法制备了锡靶,得到的厚度为1—10 mg/cm~2,效率好于80%。制靶采用的电镀和工业电镀有区别,用料少,镀液浓度低。须经过严格控制条件才能得到好的镀层。
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