铌(Ⅴ)和钽(Ⅴ)的过氧络合物在分析化学中的应用Ⅱ.用Ce(S_4O_2)滴定H_2O_2以测定钽

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常量钽的测定,一般采用重量法或差示分光光度法,很少用滴定测定法。1966年,等曾研究在0.5~2M的硫酸介质中,在H_3PO_4存在下,向含Ta(V)的溶液中定量加入过量的H_2O_2,使Ta(V)形成Ta(V)-H_2O_4-H_3PO_4三元络合物,过剩的H_2O_2,用KMnO_4标准溶液滴去,即可根据络合物中Ta(V)∶H_2O_2=1∶1,计算出钽的含量。但该文对干扰离子的影响未作具体研究,因而无法确定应用范围。用KMnO_4滴定时,有机物及一些卤素离子也不允许存在。 Constant tantalum determination, the general use of gravimetric or differential spectrophotometry, seldom titration. In 1966, et al. Studied the quantitative addition of excess H 2 O 2 into Ta (V) -containing solution in the presence of H 3 PO 4 in 0.5-2 M sulfuric acid medium to form Ta (V) -H 2 O 4 -H 3 PO 4 tris Elemental complex, excess H_2O_2, with KMnO_4 standard solution drops, you can calculate the tantalum content of Ta (V): H_2O_2 = 1: 1 in the complex. However, the paper does not make any specific study on the influence of interfering ions and thus can not determine the scope of application. With KMnO_4 titration, organic matter and some halogen ions are also not allowed to exist.
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