PtSi IRCCD器件用长焦距Si微透镜阵列的制作研究

• 作 者: 何苗 刘鲁勤 等
• 机 构: 华中理工大学光电子工程系,中国航天总公司二院25所
• 出 处: 光子学报
• 发表日期: 2001年1期
• 关键词: 微透镜阵列 氩离子束刻蚀 红外响应特性 硅化铂 IRCCD器件 Microlenses array Ar ion beam milling Hybrid dev
• 基金项目: supported by the National Defence Technology KeyLaboratory Fundation of China，国家高技术研究发展计划(863计划)

为了改善PtSiIRCCD器件的红外响应特性，需要添加长焦距微透镜阵列进行焦平面集光，本文提出了一种新的方法—曲率补偿法用于长焦距微透镜阵列的制作.扫描电子显微镜(SEM)显示微透镜阵列为表面极为平缓的方底拱形阵列，表面探针测试结果显示用曲率补偿法制作的微透镜阵列表面光滑，单元重复性好，其焦距可达到685.51μm.微透镜阵列器件与PtSiIRCCD器件在红外显微镜下对准胶合，显著改善了IRCCD器件的光响应特性.