【摘 要】
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探讨了5×10-3Pa真空条件下Pd在240K低温聚乙烯醇缩甲醛（PolyvinylFormal，编写PVF）衬底上气相沉积的特征。由透射电镜（TEM）分析发现，在240K的PVF衬底上沉积的Pd膜结构与PVF衬底温度
【机 构】
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探讨了5×10-3Pa真空条件下Pd在240K低温聚乙烯醇缩甲醛（PolyvinylFormal，编写PVF）衬底上气相沉积的特征。由透射电镜（TEM）分析发现，在240K的PVF衬底上沉积的Pd膜结构与PVF衬底温度为300K时沉积的情况很不相同，具有分形网络特征。分形网络是由线度小于2nm的fcc微晶凝聚而成。同时还发现分形结构的小岛及在生长过程中由于俘获竞争机制造成的某些区域内形校和核生长被抑制的现象。
The characteristics of Pd vapor deposition on a 240K low temperature Polyvinyl Fluoride (PVF) substrate under 5 × 10-3Pa vacuum were discussed. Transmission Electron Microscopy (TEM) analysis revealed that the Pd film deposited on a 240K PVF substrate is very different from the one deposited at a temperature of 300K and has a fractal network character. Fractal network is composed of fcc microcrystals whose linearity is less than 2nm. At the same time, it also found that fractal structure of the island and in the growth process due to the capture competition mechanism caused by the shape of the region and nuclear growth is inhibited phenomenon.
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