【摘 要】
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以氯化钴（CoCl2·6H2O）和钼酸铵(（NH4）6Mo7O24·4H2O)为原料,通过水解、静电组装和焙烧制成Co3O4/MoO3复合物,再用NaOH溶解得到介孔四氧化三钴。用X射线粉末衍射（XRD）、透射电镜（TEM
【机 构】
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苏州科技大学化学生物与材料工程学院
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以氯化钴（CoCl2·6H2O）和钼酸铵(（NH4）6Mo7O24·4H2O)为原料,通过水解、静电组装和焙烧制成Co3O4/MoO3复合物,再用NaOH溶解得到介孔四氧化三钴。用X射线粉末衍射（XRD）、透射电镜（TEM）和比表面分析对制备的材料进行表征,合成的介孔四氧化三钴最大BET比表面积为127.4 m2·g-1,孔径在10-20 nm之间。在1 mol·L-1的KOH溶液中,扫描速度为5 m V·s-1时,介孔四氧化三钴的析氧电位为0.392 V（vs.Ag/AgCl）,表明制备的介孔四氧化三钴具有较高的电催化水氧化活性。
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