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利用介质阻挡放电，在自行研制的设备上进行常压非平衡等离子体渗氮的研究。研究表明，该新工艺不仅在很短时间内在试样表面得到很深的渗层和白亮层，而且省去了真空放电下必须的真空设备，整个工艺过程操作简便，是一种很有发展前景的新工艺。
常压介质阻挡放电非平衡等离子体渗氮研究
【摘 要】
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利用介质阻挡放电，在自行研制的设备上进行常压非平衡等离子体渗氮的研究。研究表明，该新工艺不仅在很短时间内在试样表面得到很深的渗层和白亮层，而且省去了真空放电下必须的真
【机 构】
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大连海事大学金属工艺所
【出 处】
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鞍钢技术
【发表日期】
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2000年10期
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