【摘 要】
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00593 Fabrication of 0.1μm-Gate InP HEMTs Using i-Line Lithography/K. Sawada,K. Makiyama, T. Takahashi et al (Fujitsu Laboratories Ltd, Japan)//2003 Indium Ph
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00593 Fabrication of 0.1μm-Gate InP HEMTs Using i-Line Lithography/K. Sawada,K. Makiyama, T. Takahashi et al (Fujitsu Laboratories Ltd, Japan)//2003 Indium Phos-
Sawada, K. Makiyama, T. Takahashi et al (Fujitsu Laboratories Ltd, Japan) // 2003 Indium Phos-
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