聚酰亚胺气相沉积聚合的研究进展

• 作 者: 浦鸿汀 王永星
• 机 构: 同济大学材料学院功能高分子所
• 出 处: 高分子材料科学与工程
• 发表日期: 2005年5期
• 关键词: 气相沉积聚合 聚酰亚胺 影响因素 应用 vapor deposition polymerization ~ polyimide ~ influence ~ ap

综述了一种新的制备聚酰亚胺(PI)薄膜的方法--气相沉积聚合(VDP)的研究进展,用此方法制得的聚合物膜具有纯度高、膜厚可控、可实现保形涂敷、可制备难溶难熔聚合物、集聚合与成膜为一体等优点.讨论了单体种类、气化温度、真空度、沉积基质、沉积时间和酰亚胺化的温度、压力、时间等对PI的VDP过程的影响,展望了VDP法制得的PI薄膜的主要应用领域.