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溅射制备ZnS:Er^3+薄膜的光电子发射结构
溅射制备ZnS:Er^3+薄膜的光电子发射结构
来源 :半导体情报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:longweii
【摘 要】
:
利用射频磁控溅射法制备掺铒硫化锌直流电致发光薄膜,用XPS(X射线光电子能谱)技术进行剖析,获得薄膜内部构态与发光性能关系的信息,讨论了微晶薄膜中稀土掺杂状态对激发机制的影响。
【作 者】
:
柳兆洪
王余美
【机 构】
:
厦门大学物理系
【出 处】
:
半导体情报
【发表日期】
:
1998年4期
【关键词】
:
电致发光薄膜
射频磁控溅射
X射线光电子能谱
Direct current electroluminescence thin filmRadio frequen
【基金项目】
:
福建省自然科学基金
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利用射频磁控溅射法制备掺铒硫化锌直流电致发光薄膜,用XPS(X射线光电子能谱)技术进行剖析,获得薄膜内部构态与发光性能关系的信息,讨论了微晶薄膜中稀土掺杂状态对激发机制的影响。
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