Microstructure and Optical Characterization of Magnetron Sputtered NbN Thin Films

• 作 者: DU Xin-kang WANG Tian-min WANG
• 机 构: SchoolofScience,MechanicalEngineeringCollege,AcademyofSpaceTechnology
• 出 处: 中国航空学报：英文版
• 发表日期: 2007年2期
• 关键词: 磁控管 反应溅射法 显微构造 光学原理 reactive magnetron sputtering NbN thin film microstructure
• 基金项目: Foundation items： National Natural Science Foundation of China （50471004）, Foundation of Engineering Institute of Beijing University （204031）, Program for New Century Excellent Talents in University （

在准备，结构和 NbN 电影的光性质的一些基本研究被执行。NbN 薄电影被 DC 反应磁控管在不同 N_2 部分压力和从 -50 ℃到 600 ℃ X 光检查衍射分析(XRD ) 的不同底层温度劈啪作响扔，扫描电子显微镜学(SEM ) 被采用描绘他们的阶段部件，微观结构，谷物尺寸和表面形态学。包括在不同劈啪作响条件下面的 NbNfilms 的折射索引，吸光系数和发射度的 Opticalproperties 被测量。随 N_2 部分压力的增加，δ - NbN 阶段结构给形成并且谷物尺寸和增加的 cubicN