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分别采用氮离子束增强沉积和Ｎ－Ｔｉ离子束同步增强沉积工艺制备了Ｍｏ２Ｎ和Ｍｏ２－ｘＴｉｘＮ薄膜，用ＸＲＤ，ＴＥＭ、划痕和阳极极化方法研究了两者的结构与性能。
离子束增强沉积法制备Mo2N和Mo2—xTixN薄膜及其结构与性能研究
【摘 要】
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分别采用氮离子束增强沉积和Ｎ－Ｔｉ离子束同步增强沉积工艺制备了Ｍｏ２Ｎ和Ｍｏ２－ｘＴｉｘＮ薄膜，用ＸＲＤ，ＴＥＭ、划痕和阳极极化方法研究了两者的结构与性能。
【机 构】
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大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,香港?
【出 处】
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核技术
【发表日期】
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2000年7期
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