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研究了Ni/Pd双层薄膜在硅衬底上的硅化物形成过程。结果表明，加入Pd层后，退火形成Ni1－xPdxSi固熔体，该固熔体比NiSi的热稳定性好，使得NiSi向NiSi2的转变温度升高。加入Pd的量越多，NiSi2的成核温度越高，并用经典成核理论解释该现象。
Ni／Pd／Si固相反应及NiSi热稳定性增强研究
【摘 要】
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研究了Ni/Pd双层薄膜在硅衬底上的硅化物形成过程。结果表明，加入Pd层后，退火形成Ni1－xPdxSi固熔体，该固熔体比NiSi的热稳定性好，使得NiSi向NiSi2的转变温度升高。加入Pd的量越多，N
【机 构】
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复旦大学微电子学系ASIC和系统国家重点实验室,DepartementofSolidStateScience
【出 处】
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半导体学报
【发表日期】
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2002年11期
【基金项目】
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国家自然科学基金 (批准号 :60 10 60 0 2 ) ,,上海市教委和上海教育发展基金会曙光计划 ,,中国教育部博士点基金 ,,国家科委 -比利时弗兰德合作资助项目~~
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