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AlN基板材料研究进展
AlN基板材料研究进展
来源 :材料导报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jessieharbin
【摘 要】
:
氮化铝基板因具有高热导率、低介电常数、与硅相匹配的热膨胀系数等优良的物理性能,被誉为新一代理想基板材料.详细综述了AlN板的国内外研究现状及其导热机理;介绍并分析了基
【作 者】
:
孟献丰
陆春华
倪亚茹
许仲梓
【机 构】
:
南京工业大学材料科学与工程学院
【出 处】
:
材料导报
【发表日期】
:
2003年3期
【关键词】
:
AlN基板材料
研究进展
导热机理
金属化
烧结
氮化铝
集成电路
制备
thermal conduction mechanism
processing of
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氮化铝基板因具有高热导率、低介电常数、与硅相匹配的热膨胀系数等优良的物理性能,被誉为新一代理想基板材料.详细综述了AlN板的国内外研究现状及其导热机理;介绍并分析了基片制备的工艺流程和影响因素;概括总结了AlN基板的金属化和烧结工艺方面的研究进展;展望了AlN基板的发展趋势和前景.
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