【摘 要】
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美国费尔查尔德公司采用基区~(11)B~+离子注入,发射区砷扩散已达到8千兆赫3.9分贝的实验室指标。该公司采用了相当薄的高掺杂的无源基区来降低基极电阻。高浓度无
The Amer
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美国费尔查尔德公司采用基区~(11)B~+离子注入,发射区砷扩散已达到8千兆赫3.9分贝的实验室指标。该公司采用了相当薄的高掺杂的无源基区来降低基极电阻。高浓度无
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