介绍几种薄膜制备新技术

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一、引言制备薄膜的方法常用的有蒸发、溅射、CVD技术等。激光和电子束制备薄膜,由于其反应时间短、加热温度低且范围也小,加热和冷却迅速等特点而逐 I. Introduction Preparation of thin film methods commonly used are evaporation, sputtering, CVD technology. Laser and electron beam preparation of thin films, due to its short reaction time, the heating temperature is low and the range is small, rapid heating and cooling and so on
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