【摘 要】
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脉冲激光沉积技术易于获得高质量的氧化物薄膜，目前已成为一种重要的制备ZnO薄膜的技术。为了获得高质量的ZnO薄膜，采用脉冲激光沉积（KrF准分子激光器：波长248nm，频率5Hz，脉冲宽度2
【机 构】
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深圳大学材料学院深圳市特种功能材料重点实验室
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脉冲激光沉积技术易于获得高质量的氧化物薄膜，目前已成为一种重要的制备ZnO薄膜的技术。为了获得高质量的ZnO薄膜，采用脉冲激光沉积（KrF准分子激光器：波长248nm，频率5Hz，脉冲宽度20ns）方法，在氧气气氛中以高纯锌（含Zn的质量分数为0．99999）为靶材、在单晶硅和石英衬底表面得到了ZnO薄膜。通过Z射线衍射仪、表明轮廓仪、荧光光谱仪、紫外可见分光光度计对合成薄膜材料的晶体结构、厚度、光学性质等进行了研究，分析了衬底温度变化对其性能的影响。结果表明，使用脉冲激光沉积法在600℃下可以制备出（0
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