【摘 要】
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随着生产集成电路芯片的大型化,生产光刻用的大型化铬掩模显得尤为重要了.本文介绍了用硬接触法复印大型化格掩模的设备和工艺条件,并对复印中的问题进行了分析.对所生产的4
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随着生产集成电路芯片的大型化,生产光刻用的大型化铬掩模显得尤为重要了.本文介绍了用硬接触法复印大型化格掩模的设备和工艺条件,并对复印中的问题进行了分析.对所生产的4吋和5吋的铬掩模复印精度测量,其图形尺寸容差是±0.2微米.
With the large-scale production of integrated circuit chips, lithography for the production of large-scale chromium mask is particularly important.This paper describes the use of hard contact copy large-scale masking equipment and process conditions, and the copy of the problem Were analyzed for the production of 4-inch and 5-inch chrome mask copy accuracy measurement, the graphics size tolerance is ± 0.2 microns.
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