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美国应用材料公司近日宣布了其突破性的Applied Producer EternaFCVD（流体化学气相沉积）系统。这是首创的也是唯一的以高质量介电薄膜隔离20纳米及以下存储器和逻辑器件中的高密度晶体管的薄膜沉积技术。这些隔离区域可以形成深宽比大于30（是当今需求的5倍）和高度复杂的形貌。
应用材料推出突破性流体CVD技术
【摘 要】
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美国应用材料公司近日宣布了其突破性的Applied Producer EternaFCVD（流体化学气相沉积）系统。这是首创的也是唯一的以高质量介电薄膜隔离20纳米及以下存储器和逻辑器件中的高
【出 处】
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世界电子元器件
【发表日期】
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2010年9期
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